郑州某半导体行业集成块九正通明厂，晶圆工作具体步骤中产生含硅、氟的特殊性化工工业废水，制作净化处里企业规模1200吨/日。化工工业废水因素麻烦，有纳米级级硅颗粒状及氢佛酸，普通净化处里最简单的方法未能考核标准。 污水组成及源头 其主要的污染源 ：橡胶胶体部分硅（100-500nm粒度分布）、氟正离子（200-300mg/L）、异丙醇 原因工艺程序 ：晶圆刻蚀电镀生活污水（45%）、CMP化学式机械厂磨光电镀生活污水（40%）、机械设备清洁水（15%） 外理生产工艺方法 研发适用"生物沉淀物中+特中膜分離"技巧规划： 钙盐积淀 ：污泥脱水氯化钙避开氟化合物（转为CaF2放置） 二沉池表现 ：包覆斜管沉淀池剂实现了橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm管径膜公款私存微细顆粒 反渗透膜性和系统化 ：脱盐率>98%，回收公司率75% 蒸馏析出 ：浓水段达到氟化物零废气 终究的效果 氟化物溶液浓度：<8mg/L（不超国家地区第一细则10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水材料中水回用率：70%使用冷却水塔补湿 垃圾回收利用：蒸馏碎渣量较传统性工序避免60%