某光电器件造成制造业企业因晶圆擦洗环节导致含氨焦化废水，需水量200吨/天。焦化废底层的水中除高锰酸盐指数外还富含氟化物和轻微高价属，治理一定难度大。地区废气规范要求规范要求高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 工业废水化学物质及种类 晶圆进行维护清洁废水处理工艺（重点源）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀步骤工业废水：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值起伏较大大 CMP粉磨电镀废水：含硅小粒及化学需氧量 加工处理新工艺标准流程 主要采用"有机化学凝固+膜剥离+折点氯化"乐队组合工艺技术： 预工作 ：加药系统CaCl2除氟，设定pH在7.5-8. 反渗透膜系统性 ：快速清理0.01μm上文颗粒剂物 ro反渗透法浸提 ：将氯离子高浓至1000mg/L不低于 折点氯化 ：明确控住氯添加量，将高锰酸盐指数转换为氦气 阴离子互相交换 ：有保障巨资属符合标准 结果是感觉 化学需氧量固定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含量高于的检测限 水回收利用率达75% 厌氧颗粒污泥造成量减小40%