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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为84英寸晶圆引发线配建的超净水系统化,每一刻引发含硅焦化废水150吨。焦化废水底虽无血本属,但硅的含量高易积垢,且热敏电阻率需高达18MΩ·cm功能回收。原本有进行处理工学艺就没有办法实现新施行的《光电实业水影响物进行减排标》(GB39731-2020)尤其是进行减排允许值。 焦化废水组分特殊性 关键被污染的物 :固体硅(200-300mg/L)、颗料硅(粒级0.1-1μm) 特殊的需要 :TOC<10μg/L,硼含量<5μg/L 环境质量因素 :低纯水电导率(<50μS/cm)但硅无机化合物形式繁复 除理工艺过程过程 去创新主要包括"梯级膜分离法+电去阴离子"组成艺: 微滤预进行处理 :1μm瓷砖膜手机拦截大粒子硅,通量形成80LMH 铁离子更换光敏树脂 :D201大孔光敏树脂选用性吸收硅酸分子式 下级RO软件 :第一段利用率60%,第一段分为高脱硼膜pcb板 EDI电去阳离子 :直流电压溶解度2A/m²,继续除去多余化合物 紫外光灭菌 :254nm太阳光的紫外光线残留量40mJ/cm² 高技术新亮点 发展专门用阻硅剂(生物碳胺类分手后复合物),推迟膜严重污染过渡期3倍 EDI模组的创新流道设计构思,硅弄掉率大幅提升至99.8% 线硅解析仪(估测面积0.1-500μg/L)设定精准性的设定 使用认真总结 经第二方检测工具: 总硅从280mg/L降低0.05mg/L 硼硫含量从8μg/L降到0.3μg/L 系統收售率从原40%升级至68% 膜改换期限提升至5年,年运转成本低减少35%

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